X射线断层扫描系统
分析仪器
X射线断层扫描系统是一种用于材料科学领域的分析仪器,于2016年7月28日启用。
技术指标
X射线源 :20-100KV,10W,细节探测能力1um。
主要功能
采用微焦点X射线成像原理进行超高分辨率三维成像,可以在不破坏样品的前提下获得样品内部详尽的三维信息,并进行定量分析。
参考资料
X射线断层扫描系统
.国家科技基础条件平台中心.
最新修订时间:2020-12-29 22:31
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技术指标
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