二氧化硅膜_化学物质 - 线报百科mbji.cn

二氧化硅膜

化学物质

二氧化硅膜（silicon dioxide Film）是一种化学物质，一种无定形玻璃状结构的电解质膜，为近程有序网状结构。

禁带宽度8.1ev。密度2.2g/cm3。介电系数3.9。折射率1.45～1.47。电阻率1013～1015Ω·m。熔点1700℃。采用在硅片上热氧化、阳极氧化、化学气相沉积法制备，是半导体硅器件的优良的表面保护膜和表面钝化膜。

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最新修订时间：2024-06-13 18:29

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