光刻中的一个重要的性能指标指的是每个图形的
分辨率。分辨率是衡量分开相邻两个物点的像的能力。按照几何光学理论，
光学系统没有
像差时，每个物点应该产生一个锐利的点像，但是由于
衍射现象的存在，实际的成像结果总是一个有限大小的光斑。如果两个光斑发生了重叠，则二者中心强度极大值的位置很近，就越难以分辨出这两个物点。在先进的
半导体集成电路制造中，为获得高集成度
器件分辨率很关键。光刻分辨率对任何
光学系统都是一个重要的参数，并且对光刻很关键，因为需要在硅片上制造出极小的器件尺寸。硅片上形成图形的实际尺寸就是
特征尺寸，最小的特征尺寸即
关键尺寸，对于关键尺寸来说，光刻分辨率很重要。