光刻蚀
用照相制版的方法，将光敏高分子制成一定图形的杭蚀性膜，再用化学或电化学方法进行腐蚀或电镀的过程
光刻蚀（phaloetching）是用照相制版的方法，将光敏高分子制成一定图形的杭蚀性膜，再用化学或电化学方法进行腐蚀或电镀的过程。
如印刷线路铜版的制作。
参考资料
最新修订时间：2024-05-21 17:28
条目作者
小编
目录
概述
参考资料

Copyright©2024 闽ICP备2024072939号-1