光掩膜基版
理想感光性空白板
光掩膜基版是制作微细光掩膜图形的理想感光性空白板，通过光刻制版工艺可以获得所需光掩膜版。
基本简介
简单地说，光掩膜基版在被刻蚀上掩膜图形之后就成为光掩膜版。
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最新修订时间：2023-05-22 13:13
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