形貌衬度，是在SEM中，由于试样表面形貌差异而形成的衬度。

形貌衬度 (Topographic Contrast)

利用对试样表面形貌变化敏感的物 理信号如二次电子、背散射电子等作为显像管的调制信号，可以得到形貌衬 度像。其强度是试样表面倾角的函数。而试样表面微区形貌差别实际上就是 各微区表面相对于入射束的倾角不同，因此电子束在试样上扫描时任何二点 的形貌差别，表现为信号强度的差别，从而在图像中形成显示形貌的衬度。 二次电子像的衬度是最典型的形貌衬度。