放射率,晶圆在快速
热处理炉内的晶圆有效放射率为目的,考虑
中山科学研究院正在发展中的快速热处理机台腔体内的热传,本文以蒙地卡罗法(MCM)计算加热灯、腔体及晶圆之间的热辐射交换,其结果再结合晶圆有效放射率之定义,以求得快速热处理过程中晶圆有效放射率随晶圆径向位置之分布,然後以相关文献及有效放射率的定义加以
分析、探讨。
由模拟结果得知:当较小时,晶圆有效放射率与实际晶圆放射率之差距也较大。此时,反射盤反射率较大,亦即反射盤的反射增强对於的影响。当晶圆放射率较低时,由於被晶圆下表面反射之加热灯入射通量与晶圆黑体放射功率之比率较大的原因,加热灯入射通量的影响不仅明显,且影响较大之径向位置亦有往中心(r=0m)移动的现象。同样地,随著晶圆与保护环间隙由~逐渐减少时,在实际加热过程中,所有表面入射通量对於有效放射率之影响较大的径向位置,有往晶圆外缘靠近的趋势。