重点讨论表面原子迁移扩散、表面电子结构及表面原子几何排列这三个基础内容；把工程中各种表面现象概括为三个主要类型，分别讨论了以吸附、催化为代表的气-固界面，半导体和光电器件中的固-固界面以及以摩擦为代表的运动状态下接触界面。同时，分别介绍了几种最常用的表面分析技术，包括测定表面原子几何的
低能电子衍射（LEED) ，测定表面元素组成的俄歇电子谱（AES) ，鉴别表面元素化学态的X射线光电子谱（XPS) ，以及获取表面分子结构信息的静态
次级离子质谱（SSIMS) 。介绍这些表面分析技术时，重点讨论粒子束与表面相互作用，表面元激发过程及其在表面结构表征中的信息内容，为识谱和分析、理解表面物理、化学问题奠定基础。
本书可作为物理化学、材料、半导体、催化、摩擦学、光电器件及微纳米机械等专业高年级本科生及研究生教材；对于航天、信息、能源、环境、化工及机械等技术学科领域内从事材料表面科学研究的教师、研究人员及工程技术人员，本书也有很好的参考价值。