步进式光刻机是一种用于制造集成电路（IC）的装置，其在微小的硅片表面上可以形成数百万个微观电路元件，是复杂工艺的重要组成部分。

步进式光刻机光路示意图如图1，所示步进式光刻机使光穿过掩模版，从而形成掩模版图案的图像。图像通过透镜聚焦和缩小，然后投射到晶圆的表面上，该晶圆的表面涂覆有光致抗蚀剂的光敏材料。在步进式光刻机中曝光后，已涂覆的晶圆显影，从而使光致抗蚀剂根据曝光期间接收到的区域的光量溶解在某些区域中。光刻胶的这些区域和没有光刻胶的区域都将在掩模版上复制图案，是集成电路制造中的重要组成部分。