深亚微米集成电路
深亚微米制造的关键技术
深亚微米集成电路,通常把0.35-0.8μm及其以下称为亚微米级,0.25um及其以下称为深亚微米,0.05um及其以下称为纳米级。
深亚微米集成电路:深亚微米制造的关键技术主要包括紫外光刻技术、等离子体刻蚀技术、离子注入技术、铜互连技术(不是同互连)等。国际上集成电路的主流生产工艺技术为0.010μm-0.028μm。
参考资料
最新修订时间:2022-07-26 11:58
条目作者
小编
资深百科编辑
目录
概述
参考资料
Copyright©2024
闽ICP备2024072939号-1