溶剂蒸发法是指将溶剂中的水蒸发逸出,使溶液处于过饱和状态,从而使晶体生长有足够驱动力的晶体生长法。主要装置有自控加热器,转晶电机,冷凝回收溶剂装置等。生长时可以保持恒温,用控制蒸发量来控制溶液的过饱和度,得到的晶体成分均匀,生长过程稳定,利于掺杂晶体生长。但是排出腐蚀溶剂,蒸发速率难控制,出现局部高过饱和度使晶体交叉生长。已用于制备倍频晶体1.iTi2和压电品体Li,SH2。

生长时可以保持恒温,用控制蒸发量来控制溶液的过饱和度,得到的晶体成分均匀,生长过程稳定,利于掺杂晶体生长。但是排出腐蚀溶剂,蒸发速率难控制,出现局部高过饱和度使晶体交又生长。已用于制备倍频晶体1.iTi2和压电品体Li,SH2。