砷化镓外延片
用于商品化器件的产品
GaAs epitaxial wafer,在特定晶向[(100)或(100)偏向最近<110>2 ~5 的晶面]砷化镓衬底上外延生长的单晶薄层材料外延工艺有LPE、VPE、MOCVD、MBE、CBE、ALE等。
工业选择取决于器件结构等因素,一般LPE、VPE多用于商品化器件,如光探测器霍尔器件等。MBE、CBE、ALE多用于量子阱超晶格材料。MOCVD两方面兼而有之。
参考资料
最新修订时间:2024-10-27 00:40
目录
概述
参考资料