磁控溅射离子镀_将磁控溅射和离子镀结合起来的镀膜工艺

磁控溅射离子镀

将磁控溅射和离子镀结合起来的镀膜工艺

磁控溅射离子镀，将磁控溅射和离子镀结合起来的镀膜工艺。其原理是：在真空室充入氩气，并在磁控溅射靶材上施加负偏压，氩离子在电场作用下轰击靶面，被溅射出来膜料原子向工件迁移过程中部分被电离，并在基板负偏压作用下加速运动，最终在工件上沉积成膜。