纳米压印是一种用于工程与技术科学基础学科领域的工艺试验仪器，于2015年06月30日启用。

最高温度200℃；最大气压达70bar；UV波长200nm-1000nm；样品最大尺寸6英寸；样品+模具总厚度需＜2mm；最小可加工尺寸50nm,残胶＜20nm,深宽比小于5。

微纳米尺度图形结构的快速复制和转移；具有高分辨率、高产量、低成本的优点；可轻易制作3D立体结构之微影刻蚀技术；高分子材料直接压印成形，避免长时间或大范围之刻蚀步骤；可简单的制作出高深宽比的结构。此设备还采用了单面硬衬垫气压软压技术、IPS技术、STU技术，增加压力均匀性，延长模板寿命延长，提升图形分辨率。相关应用包括量子磁碟、生物传感器微阵列、微流体通道、光子晶体、GaAs量子元件等。