负性光致抗蚀剂，是一种含有感光剂的聚合物，在微电子器件和集成电路的图形曝光技术中采用的一种辐照敏感化合物。

负性抗蚀剂(Negative resist)：

这是微电子器件和集成电路的图形曝光技术中所采用的一种辐照敏感化合物[光致抗蚀剂]。

负性抗蚀剂是一种含有感光剂的聚合物，其中的感光剂在曝光后将发生交联反应，变成不能被显影液溶解掉的较高分子量的交联聚合物；曝光后得到的图形与掩模版图形相反。

负性抗蚀剂的主要缺点是在显影时将吸收显影液、而发生体积膨胀，并从而限制了曝光的分辨率。光学曝光用的负性抗蚀剂有如Kodak747；电子束曝光用的负性抗蚀剂有如COP[poly (glycidyl methacrylate-co-ethyl acrylate)]和GeSe；x射线曝光用的负性抗蚀剂有如COP和DCOPA[dichloropropyl acrylate与COP]。