非平衡磁控溅射
物理学术语
非平衡磁控溅射是2011年公布的材料科学技术名词。
定义
磁控靶边缘的磁力线呈发散状直达基底表面，在基底表面形成大量离子轰击，直接干预基底表面溅射成膜的过程。
出处
《材料科学技术名词》。
参考资料
非平衡磁控溅射.术语在线.
最新修订时间：2023-01-16 22:06
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定义
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