同济大学精密光学工程技术研究所隶属于先进微结构材料
教育部重点实验室和同济大学物理系，是以同济大学光学与光学工程学科为主要研究力量，经同济大学批准，2002年5月正式开始建设。
研究所紧密结合国际学科前沿和国家重大战略需求，以光与物质相互作用为研究对象，主要开展光学计量技术、尖端光学薄膜技术、极紫外与软X射线及X射线多层膜光学技术、先进成像光学技术、超精密光学制作工艺技术研究，研究所定位于国际前沿性基础和应用基础研究以及关键技术攻关，为我国光学与光学工程的发展提供
前瞻性研究成果并培养高层次科技人才。
光学计量技术：以纳米长度标准为应用背景，采用激光冷却原子和激光汇聚原子方法，着重研究可溯源到激光波长的
纳米结构制作原理、方法和技术，采用
原子力显微镜等方法研究纳米结构的表征新途径。
尖端光学薄膜技术：以高强度激光作为应用背景，采用离子束辅助
电子束蒸发方法研制高性能光学薄膜，系统测量光学薄膜的力学、热学和光学等物理性质，建立高强度激光与光学薄膜相互作用模型，揭示激光损伤薄膜的机制，探索新型高性能光学薄膜的设计、制作、表征及应用。
极紫外与软X射线及X射线多层膜光学技术：以同步辐射、稠密
等离子体诊断、天文学为应用背景，采用磁控溅射方法研制高性能极紫外与软X射线及X射线多层膜，系统研究多层膜的微结构、成分与界面状态等物理化学性质，揭示多层膜宏观性能与微观性质的关系，探索新型多层膜的设计、制作、表征及应用。
先进成像光学技术：以稠密
等离子体诊断和精密光学系统应用为应用背景，系统研究特殊要求光学系统的设计方法，探索光学系统高精密装校方法与技术，建立先进光学系统表征方法与技术，研制各种应用要求的高性能光学系统。
超精密光学制作工艺技术：针对极紫外与软X射线及X射线元件与系统的特殊需求，深入开展超光滑和特殊曲面光学元件的加工与性能表征方法与技术，建立新型光学元件加工设备，揭示超光滑与特殊曲面加工工艺的规律，研制出相应的光学元件。