对准标识是指集成电路制造工艺中，凡是在对准激光照射下能产生衍射的周期性结构都可以被认为是对准标识。然而，在实际工艺条件下，对准标识还必须满足其他条件：第一，晶圆上的标识必须不容易被工艺损坏；第二，便于放置在掩模上，不影响器件；第三，能有效地被对准光学系统探测到，并提供最大的信号强度。

高精度光刻设备所采用的对准方式主要有两类，即光栅衍射空间滤波干涉和视频图像处理。常见的对准方式如早期采用的离轴对准有双目显微镜对准；共轴对准有TTL（Through The Lens）对准和双光束逐场对准；明场对准有激光扫描视频图像对准、场像对准；暗场对准有激光步进对准；光栅对准有莫尔条纹对准、激光外差干涉对准、全息对准等。

不同型号的光刻机可能使用不同的对准标识。这里就几种主要的对准标识进行讨论。

图1 ASML标准标识

图1是ASML标准标识的设计图。晶圆上的标识和掩模上的标识相似。水平的周期性线条是用于测量晶圆和掩模水平位置的偏差；垂直的线条是用于测量垂直方向的偏差。对准标识是8um线宽/8um间隔（周期=16nm）和8.8nm线宽/8.8nm间隔（周期=17.6nm）的密集线条。

图2 SMASH对准标识

SMASH（smart alignment sensor hybrid）标识的设计如图2所示。它是一系旋转了45°的等间距线条构成的。这些线条不一定都是实线条，也可以是由点阵构成。

图3 Nikon LSA和FIA对准标识

Nikon有两种对准标识的设计： LSA标识和FIA标识。 LIA可以使用FIA的标识。图3(a)是LSA的设计，图3(b)是FIA的设计图形。它们用于确定晶圆X方向的位置。把3(a)、3(b)旋转90°，用于确定晶圆Y方向的位置。

图4 Canon对准标识

Canon光刻机使用的对准标识如图4所示。用于对准照明的光源可以是He-Ne激光（632.8nm波长）或具有较宽波段的可见光（590±6nm）。