在集成电路制造中通常需要设计一些特定的基本图形，称之为特征图形。

这些特定设计的基本图形由一条连续边界线包围的区域（可以是一个具有一定宽度的线条、矩形，也可以是一些图形集合成的封闭多边形，该多边形的任何边不允许有交叉现象），而且其物理性质要和背景区域的土行不通，称之为特征图形（比如一个测试中最简单的单元、一根有宽度的小线条）。用以区分特征图形物理性质的一些参数，包括折射率、反射率、高度、粗糙度及其他半导体电学特性等。

这些特征图形可以是检测图形、检测标记、套刻标记和关键尺寸图形。