本书是薄膜物理学和工艺学的一本入门书。全书共分三部分，第一部分介绍薄膜的制备方法，着重介绍真空蒸发和
阴极溅射法。此外还介绍了现行的测量和监控薄膜厚度及淀积速率的方法，第二部分论述薄膜形成的物理基础，主要论述成核理论和生长理论，以及影响薄膜（包括外延膜）最终结构的各种因素，并详细介绍了用来分析薄膜的化学成分、形态和结构的
电子显微镜及衍射方法，表面研究的现代方法[
低能电子衍射（LEED）、二次离子质谱（SIMS）和俄歇（Auger）能谱]。最后一部分介绍薄膜技术的应用，主要介绍电子学方面的应用。
本书可供从事电学薄膜和
光学薄膜研究、生产的工人、技术人员、高等院校有关专业的师生及应用电学和光学薄膜的有关人员参考。